Verfahren zur Auswahl von Substraten für Fotomaskenrohlinge

摘要

Verfahren zur Auswahl von Substraten für einen Fotomaskenrohling, die viereckig sind und auf jeder Seite eine Länge von mindestens 152,4 mm (6 Zoll) aufweisen, mit der Maßgabe, dass sich ein Paar von streifenförmigen Bereichen (2, 2) zwischen 2 mm und 10 mm innerhalb jeder des Paares von gegenüberliegenden Seiten entlang des äußeren Randes einer Deckfläche (1) eines Substrats erstreckt, auf der eine Maskenstruktur ausgebildet werden soll, wobei an jedem Ende in Längsrichtung ein Kantenabschnitt von 2 mm ausgenommen ist, wobei das Verfahren die folgenden Schritte umfasst: Messen der Höhe zwischen einer Ebene der kleinsten Quadrate (21) für die streifenförmigen Bereiche (2, 2) auf der Substratdeckfläche (1) und den streifenförmigen Bereichen (2, 2) in Intervallen von 0,05 bis 0,35 mm in horizontaler und vertikaler Richtung, und Auswählen eines Substrats als Substrat mit einer akzeptablen Oberflächenform, bei dem die Differenz zwischen den Maximal- und Minimalwerten für die Höhe unter allen Messpunkten nicht mehr als 0,5 μm beträgt.