| 摘要 |
본 발명의 일 태양의 하전 입자 빔 묘화 장치는, 미리 외부로부터 입력된, 근접 효과에 기인하는 치수 변동을 보정하는 보정분이 고려된 도스 변조량을 이용하여 가중치가 부여된 패턴의 면적 밀도를 연산하는 면적 밀도 연산부와, 외부로부터 입력된 도스 변조량을 이용하여 가중치가 부여된 패턴의 면적 밀도를 이용하여, 포기 효과에 기인하는 치수 변동을 보정하는 포기 보정 조사량 계수를 연산하는 포기 보정 조사량 계수 연산부와, 포기 보정 조사량 계수와 도스 변조량을 이용하여, 하전 입자 빔의 조사량을 연산하는 조사량 연산부와, 조사량의 하전 입자 빔을 이용하여 시료에 패턴을 묘화하는 묘화부를 구비한 것을 특징으로 한다. |
