一种等离子体处理的工艺控制方法及装置

摘要

本发明实施例公开了一种等离子体处理的工艺控制方法及装置，其中，该方法包括：获取工艺流程参数管理表中的工艺数据，其中，所述工艺流程参数管理表中包括配置的工艺数据，该工艺数据包括工艺步骤及对应工艺步骤下的工艺参数；通过基于OPC协议的数据通讯，对获取到的工艺数据进行封装，并将封装后的工艺数据发送给工业组态监控设备，以使所述工业组态监控设备根据所述工艺步骤和工艺参数控制与其相连的工艺设备执行对应的工艺操作。采用本发明，可灵活处理工艺数据，并实时跟踪、调整工艺设备执行的工艺操作，提高了工艺处理质量。

主权项

一种等离子体处理的工艺控制方法，其特征在于，包括：获取工艺流程参数管理表中的工艺数据，其中，所述工艺流程参数管理表中包括配置的工艺数据，该工艺数据包括工艺步骤及对应工艺步骤下的工艺参数；通过基于OPC协议的数据通讯，对获取到的工艺数据进行封装，并将封装后的工艺数据发送给工业组态监控设备，以使所述工业组态监控设备根据所述工艺步骤和工艺参数控制与其相连的工艺设备执行对应的工艺操作。