发明名称 |
为使沉积留存增加而用于表面纹理化的几何形状和图案 |
摘要 |
提供一种处理腔室部件和用于制造所述处理腔室部件的方法。所述处理腔室部件以在此描述的方式制造,并包括在腔室部件的表面上至少一宏观纹理的产生。所述宏观纹理由多个经设计的特征结构所限定,所述经设计的特征结构在腔室部件的表面上以预定方向布置。在某些实施方式中,这些经设计的特征结构避免在这些特征结构之间限定的视线表面的形成,以增强在腔室部件上沉积的膜留存。 |
申请公布号 |
CN105531796A |
申请公布日期 |
2016.04.27 |
申请号 |
CN201480050497.6 |
申请日期 |
2014.08.26 |
申请人 |
应用材料公司 |
发明人 |
王建奇;威廉·明谕·吕;西村由香里;约瑟夫·F·萨默斯;罗绍安;拉扬·巴勒森 |
分类号 |
H01L21/027(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/027(2006.01)I |
代理机构 |
北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 |
代理人 |
徐金国;赵静 |
主权项 |
一种物件,所述物件具有经图案化的表面以增强沉积膜的留存,所述物件包括:处理腔室部件,所述处理腔室部件具有经设计的特征结构所形成的宏观纹理化表面,所述经设计的特征结构被布置成避免跨越所述宏观纹理化表面形成视线表面,其中所述经设计的特征结构的一个或更多个特征结构具有凹表面。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |