发明名称 | 用于检验显影能力的光罩及显影能力的检验方法 | ||
摘要 | 本发明揭示了一种用于检验显影能力的光罩及显影能力的检验方法。所述光罩包括多个曝光区,所述曝光区的面积依次增大。所述显影能力的检验方法包括利用所述的光罩对晶圆进行光刻工艺,并观察所述晶圆上出现的光阻残留缺陷,以判断显影设备的显影能力。本发明的方法操作简单,避免了其他因素对显影能力的干扰,因此可靠性强。 | ||
申请公布号 | CN105527792A | 申请公布日期 | 2016.04.27 |
申请号 | CN201410510063.1 | 申请日期 | 2014.09.28 |
申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 发明人 | 叶逸舟;朱晓峥;杨晓松 |
分类号 | G03F1/00(2012.01)I;G03F1/84(2012.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/00(2012.01)I |
代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 屈蘅;李时云 |
主权项 | 一种用于检验显影能力的光罩,所述光罩包括多个曝光区,所述多个曝光区的面积依次增大。 | ||
地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 |