发明名称 用于zeeko机床内降低抛光液浓度损耗的装置
摘要 一种用于zeeko机床内降低抛光液浓度损耗的装置,包括相互扣合的防护罩和装载件,其中:装载件设置于zeeko机床上,且设有一个引流管,使得抛光液只从单一的引流管中流出,不损耗抛光液的浓度,从而使得加工出的工件表面面形精度更高。
申请公布号 CN205184542U 申请公布日期 2016.04.27
申请号 CN201520906637.7 申请日期 2015.11.13
申请人 上海现代先进超精密制造中心有限公司 发明人 韩庆
分类号 B24B57/02(2006.01)I;B24B55/00(2006.01)I;B24B29/00(2006.01)I 主分类号 B24B57/02(2006.01)I
代理机构 上海顺华专利代理有限责任公司 31203 代理人 陈淑章
主权项 一种用于zeeko机床内降低抛光液浓度损耗的装置,其特征在于,包括相互扣合的防护罩和装载件,其中:装载件设置于zeeko机床上,且设有一个引流管。
地址 200433 上海市杨浦区国定路335号2号楼2401室