一种自适应光刻系统光源优化方法

摘要

本发明提供一种自适应光刻系统光源优化方法,达到优化光源图形，提高光刻系统成像性能，并尽可能降低光源复杂度的目的。本方法采用序贯最小二乘估计方法，在每次迭代中采用关键区域中的一个观测点数据，对当前光源图形进行更新。在遍历所有观测点后，采用逆向阶递归最小二乘估计方法，对光源图形进行循环规则化。采用本方法，如果在光源优化结束后获得了新增的观测点数据，可以直接对当前光源优化结果进行修正，而无需对光源进行重新优化。同时，本发明可以实现照明交叉系数矩阵计算和光源优化的并行处理，并可以在降低光源复杂度的同时，尽量提高或保持光刻系统的成像质量。最后，本发明采用矢量成像模型，可满足高NA光刻系统的仿真精度要求。

主权项

一种自适应的光刻系统光源优化方法，其特征在于，具体步骤为：步骤101、将光源初始化为大小为N_S×N_S的光源图形J，将掩模图形M和目标图形栅格化为N×N的图形，初始化大小为N_S²×N_S²的序贯最小二乘估计(sequential least square estimator，简称SELSE)协方差矩阵Σ，初始化噪声向量的方差σ²，将照明交叉系数矩阵初始化为一个空矩阵，记为ICC，将向量初始化为一个空向量，其中N_S和N为整数；步骤102、对光源图形J进行从左上至右下的逐行扫描，并将J转化为N_S²×1的光源向量的元素值为光源图形J的像素值；步骤103、计算每一个光源像素点(x_s,y_s)对应的x轴分量等效点扩散函数y轴分量等效点扩散函数和z轴分量等效点扩散函数步骤104、在晶片上的关键区域中选择一个新的观测点选取向量中对应观测点的元素z^s；计算对应于观测点的ICC矩阵的新的一行其大小为1×N_S²，其中T为转置操作；将作为最下方的一行补充到当前的ICC矩阵中；将z^s作为最后一个元素补充到当前的向量中；步骤105、采用SELSE方法，更新光源向量步骤106、若在晶片上有新增的观测点，则返回步骤104；否则进入步骤107；步骤107、采用逆向阶递归最小二乘估计(order‑recursive least square estimator，简称ORLSE)方法，计算规则化后的光源向量步骤108、对规则化后的光源向量进行逆行扫描操作，将中的各元素值赋给对应的N_S×N_S的光源图形的像素点，并将光源图形上的其他像素点置0，将所获得的光源图形记为即为优化后的光源图形。