发明名称 等离子处理装置及等离子处理方法
摘要 本发明公开一种实现等离子处理装置的小型化或设置面积的减少的等离子处理装置。干蚀刻装置(1)具备贮存部(13),该贮存部(13)包含收纳有托盘(3)的盒(62),该托盘(3)收容有基板(2)且可搬运。在收容有托盘(3)的搬运机构(15)的搬运部(12)内设置旋转台(33)。使载置有干蚀刻前的托盘(3)的旋转台(33)旋转,通过凹口检测传感器(44)检测凹口(3c),由此进行托盘(3)的旋转角度位置调整。
申请公布号 CN103140922B 申请公布日期 2016.04.27
申请号 CN201280003129.7 申请日期 2012.03.26
申请人 松下知识产权经营株式会社 发明人 岩井哲博
分类号 H01L21/677(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I 主分类号 H01L21/677(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 汪惠民
主权项 一种等离子处理装置,其特征在于,具备:贮存部,其收纳等离子处理的对象物;等离子处理部,其对从所述贮存部搬入的所述对象物执行等离子处理;搬运部,其收容有搬运所述对象物的搬运装置;准备台,其收容于所述搬运部,从所述贮存部向所述等离子处理部搬入之前的所述对象物配置于该准备台;以及预备处理部,其与所述准备台协作而对所述对象物执行所述等离子处理用的预备性处理,所述对象物是收容有基板的可搬运的托盘,所述搬运装置具备支撑所述对象物的支撑部和使所述支撑部在水平面内回旋的回旋轴,所述准备台配置在所述回旋轴与所述贮存部之间,所述搬运部内与所述贮存部内经由连通口连通,所述准备台在将所述回旋轴与所述贮存部的中心连结的假想的线上且在所述回旋轴与所述连通口之间配置,所述预备处理部执行所述对象物是否为适合于所述等离子处理的状态的检查。
地址 日本国大阪府