| 发明名称 | 离合器装置以及双离合器装置 | ||
| 摘要 | 离合器装置，尤其湿式运行地构造，包括保持元件(30)，其中，该保持元件(30)相对于另一构件(34)经由密封件(36)密封并且能移位，其中，该密封件(36)至少区段地下沉地引入在该保持元件(30)中的凹部(38)中，使得与当它们被分开地考虑时、单纯地在该区段中的这两个构件的各个厚度之和相比较，在该区段中该保持元件(30)和其内埋入的密封件(36)的总结构的厚度更小。 | ||
| 申请公布号 | CN105526273A | 申请公布日期 | 2016.04.27 |
| 申请号 | CN201510628294.7 | 申请日期 | 2015.09.28 |
| 申请人 | 舍弗勒技术股份两合公司 | 发明人 | K·海利格 |
| 分类号 | F16D13/22(2006.01)I;F16D13/58(2006.01)I | 主分类号 | F16D13/22(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 侯鸣慧 |
| 主权项 | 离合器装置，尤其湿式运行地构造，包括保持元件(30)，其中，该保持元件(30)相对于另一构件(34)经由密封件(36)密封并且能够移位，其特征在于，该密封件(36)至少区段地下沉地引入在该保持元件(30)中的凹部(38)中，使得与当它们被分开地考虑时、单纯地在该区段中的这两个构件的各个厚度之和相比较，在该区段中该保持元件(30)和其内埋入的密封件(36)的总结构的厚度更小。 | ||
| 地址 | 德国黑措根奥拉赫 | ||