一种湿法刻蚀设备

摘要

本申请公开了一种湿法刻蚀设备，包括传输硅片的传输滚轮，所述传输滚轮上设置有正方形的载片框，所述载片框的四条边框均固定有垂直于各自所在的边框且与所述载片框位于同一个平面内的硅片支撑部，所述硅片支撑部的第一端固定在所述边框上，第二端朝向所述载片框的几何中心，且相对设置的两个所述硅片支撑部的第二端之间的距离小于所述硅片的边长。上述湿法刻蚀设备，利用设置在传输滚轮上的载片框，能够避免硅片与传输滚轮接触，从而不会产生滚轮印，提高刻蚀的质量。

主权项

一种湿法刻蚀设备，包括传输硅片的传输滚轮，其特征在于，所述传输滚轮上设置有正方形的载片框，所述载片框的四条边框均固定有垂直于各自所在的边框且与所述载片框位于同一个平面内的硅片支撑部，所述硅片支撑部的第一端固定在所述边框上，第二端朝向所述载片框的几何中心，且相对设置的两个所述硅片支撑部的第二端之间的距离小于所述硅片的边长。