发明名称 |
用于在激光产生的等离子体远紫外光源中的靶材传送保护的系统和方法 |
摘要 |
此处公开一种装置,包括:腔室;用于提供靶材液滴流的源,沿着靶材释放点和照射区域之间的路径将靶材传送到腔室中的照射区域;腔室中的气流,气流中至少有一部分沿朝着液滴流的方向流动;产生激光束的系统,所述激光束照射处于照射区域中的液滴,从而产生等离子体以产生远紫外光辐射;沿着所述液滴流的罩,所述罩具有第一罩部分和相对的开口部分,所述第一罩部分屏蔽来自所述气流的液滴。 |
申请公布号 |
CN102822903B |
申请公布日期 |
2016.04.27 |
申请号 |
CN201180017823.X |
申请日期 |
2011.04.01 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
I·V·福缅科夫;W·N·帕特洛 |
分类号 |
G21G5/00(2006.01)I |
主分类号 |
G21G5/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京市金杜律师事务所 11256 |
代理人 |
王茂华;吕世磊 |
主权项 |
一种用于产生远紫外光的装置,包括:腔室;用于提供靶材流的源,沿着靶材释放点与所述腔室中的照射区域之间的路径将靶材传送到所述照射区域;所述腔室中的气流,所述气流中的至少一部分按照朝着所述靶材流的方向流动;产生激光束的系统,所述激光束照射处于所述照射区域中的靶材,从而产生等离子体以产生远紫外光辐射;以及沿着所述靶材流的一部分定位的罩,所述罩具有第一罩部分,所述第一罩部分屏蔽来自所述气流的靶材流,其中,所述第一罩部分在平行于所述路径的方向上延伸并且包括形成有至少一个通孔的管,所述至少一个通孔延伸穿过所述管的壁。 |
地址 |
荷兰维德霍温 |