发明名称 |
一种用于电蚀刻非晶合金材料件的电蚀刻液及蚀刻方法 |
摘要 |
本发明公开了一种用于电蚀刻非晶合金材料件的电蚀刻液及蚀刻方法。所述电蚀刻液含有5~15wt%的抛光剂,5~15wt%的蚀刻剂以及0.7~7wt%的缓蚀剂。所述蚀刻方法包括以下步骤:在所述非晶合金材料件表面设置掩模;使用化学蚀刻液对表面设置有掩模的非晶合金材料件进行化学蚀刻;使用电蚀刻液对化学蚀刻后的非晶合金材料件进行电蚀刻;以及除去电蚀刻后的非晶合金材料件表面的掩模,得到带有蚀刻图案的非晶合金材料件。根据本发明的非晶合金材料件的蚀刻方法可以有效控制蚀刻精度尺寸,使蚀刻区底纹光滑且光泽度高,提高非晶合金材料件的表面装饰性。 |
申请公布号 |
CN103160909B |
申请公布日期 |
2016.04.27 |
申请号 |
CN201110421439.8 |
申请日期 |
2011.12.15 |
申请人 |
比亚迪股份有限公司 |
发明人 |
宫清;林宏业;连俊兰;高乡明;刘青松 |
分类号 |
C25F3/08(2006.01)I |
主分类号 |
C25F3/08(2006.01)I |
代理机构 |
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 |
代理人 |
宋合成 |
主权项 |
一种用于电蚀刻非晶合金材料件的电蚀刻液,其特征在于,所述电蚀刻液含有5~15wt%的抛光剂,5~15wt%的蚀刻剂以及0.7~7wt%的缓蚀剂,其中,所述抛光剂为油酸,所述蚀刻剂为氯化盐,所述缓蚀剂为羧酸盐和选自氨基三甲叉膦酸、乙二胺四甲叉膦酸钠、乙二胺四甲叉膦酸、二乙烯三胺五甲叉膦酸、2‑膦酸丁烷‑1,2,4‑三羧酸中的一种或多种。 |
地址 |
518118 广东省深圳市坪山新区比亚迪路3009号 |