发明名称 粒子束治疗装置
摘要 本发明提供一种能够提高照射目标中心精度的粒子束治疗装置。粒子束治疗装置(20),具有旋转架台(13),所述旋转架台(13)使得用于向设置在内部的放射线治疗室(21)照射带电粒子束的照射口(4)进行环绕移位,该粒子束治疗装置(20)具有:架台体部(1),构成该旋转架台(13);搭载磁体(2),经由磁体支撑部(3)连接到该架台体部(1),将所述带电粒子束引导到照射口(4);位移计或者加速度计(9),设置在该搭载磁体(2)上,测量该搭载磁体的位移或加速度;以及控制机构(10),向缩小该位移计或者加速度计(9)计测到的至少一个自由度以上的位移或者加速度的方向,控制所述搭载磁体(2)的位置。
申请公布号 CN105521567A 申请公布日期 2016.04.27
申请号 CN201510686055.7 申请日期 2015.10.21
申请人 株式会社东芝 发明人 石山洋;受川铁平;松井健太郎;泷口裕司
分类号 A61N5/10(2006.01)I 主分类号 A61N5/10(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 杨谦;胡建新
主权项 一种粒子束治疗装置,其特征在于,具有旋转架台,所述旋转架台使得用于向设置在内部的放射线治疗室照射带电粒子束的照射口进行环绕移位,该粒子束治疗装置具有:架台体部,构成该旋转架台;搭载磁体,经由磁体支撑部连接到该架台体部,将所述带电粒子束引导到照射口;位移计或者加速度计,设置在该搭载磁体上,测量该搭载磁体的位移或加速度;以及控制机构,向缩小该位移计或者加速度计计测到的至少一个自由度以上的位移或者加速度的方向,控制所述搭载磁体的位置。
地址 日本东京都