太阳光谱选择性吸收涂层及其制备方法以及应用

摘要

本发明提出一种太阳光谱选择性吸收涂层及其制备方法以及应用,该太阳光谱选择性吸收涂层依次包括：基底层、红外反射层、吸收层和减反层；所述的吸收层由三层渐变太阳光谱吸收层组成，依次为外吸收层、中吸收层和内吸收层，所述内吸收层的材质为TiN_x1O_y1，所述中吸收层的材质为TiN_x2O_y2，所述外吸收层的材质为TiN_x3O_y3。所述吸收层的光学参数梯度渐变，实现了涂层对太阳光谱的高效吸收,较高的热稳定性以及低热辐射率。

主权项

一种太阳光谱选择性吸收涂层，其特征在于，所述吸收涂层由以下步骤制备得到：步骤1，采用Al、Cu或玻璃作为基底层材料，将基底层材料置于真空清洗室中，通入一定量的氩气，进行射频氩离子清洗；步骤2，采用磁控溅射铝靶、铜靶或银靶在上述的基底层上制备红外反射层；步骤3，在通入氩气和氮气的条件下，将上述的红外反射层置于钛靶下，采用磁控溅射法在上述的红外反射层上制备内吸收层；最后通入一定量的氧气，继续以金属钛为靶材通过反应磁控溅射法在上述内吸收层上制备中吸收层；然后增加氧气流量，继续以金属钛为靶材通过反应磁控溅射法在上述中吸收层上制备外吸收层；步骤4，将步骤3得到的产品置于硅靶前，通入氩气和氧气，用反应磁控溅射法在上述外吸收层上制备氧化硅层作为减反层；其中，所述内吸收层的材质为TiN_x1O_y1，1.10＞x1＞0.90,0.70＞y1＞0.50，所述中吸收层的材质为TiN_x2O_y2，0.80＞x2＞0.70,1.15＞y2＞1.05，所述外吸收层的材质为TiN_x3O_y3，0.55＞x3＞0.45,1.30＞y3＞1.10；所述外吸收层的厚度为10nm‑50nm，中吸收层的厚度为10nm‑50nm，内吸收层的厚度为20nm‑50nm。