| 摘要 |
고속 표면 처리에 유리한 유전체 장벽 방전 반응기를 제공한다. 유전체 장벽 방전 반응기는 제1 전압을 인가받는 제1 전극과, 제1 전극의 좌우 양측에 위치하며 제2 전압을 인가받는 두 개의 제2 전극과, 제1 전극과 제2 전극들의 하부에 위치하며 피처리 기판을 지지하는 접지 전극을 포함한다. 제1 전극과 제2 전극들은 각자의 유전체로 둘러싸이며, 제1 전압과 제2 전압은 서로 반대 극성을 가지면서 시간에 따라 변하는 전압이다. 제1 전극의 폭은 제2 전극들 각각의 폭보다 크게 형성된다. |
