| 摘要 |
본 발명의 실시예는 자체 세정할 수 있고 폴리싱 패드 위로 슬러리 작용제 및 세척제를 조정가능하게 전달할 수 있는 화학적 기계적 폴리싱(CMP) 장치용 슬러리 전달 및 세척 시스템을 제공한다. 일 실시예에서, 유체 전달 시스템은 하나 이상의 매니폴드, 통상적으로 전달 아암의 하부 표면에 부착된 두 개 또는 세 개 이상의 매니폴드를 포함하는 분배된 슬러리 전달 아암(DSDA)을 가진다. 각각의 DSDA 매니폴드는 매니폴드의 길이를 따라 배치된 복수의 슬러리 노즐을 포함한다. 전달 아암은 또한 전달 아암의 하부 표면으로부터 연장하고 각각의 DSDA 매니폴드에 평행하게, 전달 아암의 길이를 따라 배치되는 복수의 고압 세척 노즐을 포함한다. 일 예에서, 전달 아암은 서로 팽행하게 배치된 두 개의 DSDA 매니폴드 및 매니폴드들 사이에 배치된 복수의 고압 세척 노즐을 포함한다. |
