发明名称 RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD
摘要 감도, 보존 안정성, 도포성, 현상성, 및 안전성이 우수하고, 노광 및 현상에 의해, 이물의 발생이 억제된 패턴을 형성할 수 있는 감방사선성 조성물 및 그것을 사용한 패턴 제조 방법을 제공한다. 본 발명에 관련된 감방사선성 조성물은, 하기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물을 함유한다. 식 중, R은, 수소 원자 또는 하이드록실기를 나타내고, R및 R은, 독립적으로 수소 원자 또는 C∼ C의 알킬기를 나타내고, R및 R는, 독립적으로 C∼ C의 알킬기를 나타낸다.
申请公布号 KR20160045094(A) 申请公布日期 2016.04.26
申请号 KR20167007028 申请日期 2014.09.25
申请人 TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 发明人 SHIDA MASARU;UEMATSU TERUHIRO
分类号 G03F7/004;G03F7/022;G03F7/023;G03F7/027;G03F7/032;G03F7/033 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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