| 发明名称 |
APPARATUS FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND RECORDING MEDIUM |
| 摘要 |
본 발명은 기판을 수용하는 처리실; 상기 처리실 내에 처리액을 공급하는 처리액 공급 노즐; 상기 처리실 내에 설치되어 상기 기판을 지지하는 기판 지지부; 상기 기판 지지부의 상단에 설치되고, 상기 처리액 공급 노즐로부터 공급된 상기 처리액을 상기 기판 지지부와 동일 공간 내에서 기화시키는 기화부; 및 상기 기화부를 가열하는 가열부를 구비한다. |
| 申请公布号 |
KR101615584(B1) |
申请公布日期 |
2016.04.26 |
| 申请号 |
KR20147013250 |
申请日期 |
2012.11.20 |
| 申请人 |
가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키 |
发明人 |
와다 유이치;사쿠마 하루노부;아시하라 히로시;타테노 히데토 |
| 分类号 |
H01L21/02;H01L21/31;H01L21/316;H01L21/324;H01L21/683 |
主分类号 |
H01L21/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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