| 摘要 |
타겟을 노출하기 위한 복수의 노출 빔렛들을 생성하는 마스크리스 리소그래피 머신에서 패턴 데이터에 따라 타겟을 노출하기 위한 방법 및 시스템이 개시된다. 방법은 벡터 포맷인 입력 패턴 데이터를 제공하는 단계, 중간 패턴 데이터를 생성하기 위해 입력 패턴 데이터를 렌더링 및 양자화하는 단계, 및 출력 패턴 데이터를 생성하기 위해 중간 패턴 데이터를 재-샘플링 및 재-양자화하는 단계를 포함한다. 출력 패턴 데이터가 리소그래피 머신에 공급되며, 리소그래피 머신에 의해 생성되는 빔렛들은 출력 패턴 데이터에 기초하여 변조된다. |
