| 摘要 |
본 발명은 플라즈마 발생 시 기생 플라즈마 발생의 방지 또는 억제를 통해 파티클의 누적 방지를 도모할 수 있음과 동시에, 균일한 플라즈마 발생을 가능하게 하며, 특히 화학기상 증착법 및 원자층 증착법 모두에 적용할 수 있어 범용성, 경제성 및 효율성을 확보할 수 있는 기생 플라즈마 방지가 가능한 반도체 증착 장비용 샤워헤드 장치를 제공하는데 그 목적이 있다. 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 공급되는 가스에 플라즈마를 발생시켜 공급하는 반도체 증착 장비의 샤워헤드 장치에 있어서, 제1 가스와 제2 가스가 공급되는 공급유로가 각각 격리되어 형성된 분배 블럭 부재; 상기 분배 블럭 부재의 하측에 구비되며, 상기 분배 블록 부재의 공급유로 각각에 연통되게 연통유로가 형성되는 절연 부재; 상기 절연 부재의 하측에 구비되며, 상기 각 연통유로로부터 공급되는 가스를 확산 공급하는 확산 공간을 갖고 형성되는 가스분배확산 블럭 부재; 및 상기 가스가 공급되는 유로 상에서 가스압력 또는 전극 간의 거리가 증가하도록 구성하여 기생 플라즈마의 발생을 방지하기 위한 기생플라즈마 발생 방지 수단;을 포함하는 기생 플라즈마 방지가 가능한 반도체 증착 장비용 샤워헤드 장치가 제공된다. |
