真空控制系统及真空控制阀

摘要

一种控制真空容器之内部中之气体流动的技术。
本发明提供一种真空控制系统，其系从气体供给部接
收处理气之供给，并使用真空泵控制对处理对象执行处理的真空容器中之处理气的真空压力与流动者。真空控制系统具备：各真空控制阀，系连接在复数气体排出口的各个气体排出口与真空泵之间者；前述复数气体排出口的各个气体排出口在真空容器中系配置在相互不同的位置；压力测量部，系测量供给至处理对象的处理气之真空压力者；及控制装置，系依照所测量的真空压力，操作复数真空控制阀的各个真空控制阀之开度者。

主权项

一种真空控制阀，系连接真空容器与真空泵之间，藉由工作流体操作阀之开度而控制前述真空容器内之真空压力，其特征在于包含有：控制阀本体，具有连接前述真空容器与前述真空泵之通路、及形成于前述通路之阀座；动作部，具有阀体、活塞、及将前述阀体与前述活塞结合之杆；前述阀体系进行因上升距离之调节所形成的前述阀开度之操作、及因与前述阀座之抵接所形成的前述通路之断流；而，前述上升距离系与前述阀座间的距离；压缸，连接至前述控制阀本体并收容前述活塞；赋与势能部，将前述动作部往前述上升距离缩小的方向赋与势能；及伸缩囊膜(bellowsphram)，追踪前述活塞之动作并将前述活塞之外围面与前述压缸之内围面之间的缝隙予以密闭；又，前述动作部及前述压缸具备：阀开度操作室，藉由前述伸缩囊膜密闭且具有包围前述杆之筒状之形状的空间，系依照前述工作流体之作用压力，往前述上升距离增长的方向对前述活塞生成负载；及断流负载生成室，系形成于前述杆之内部，与前述阀开度操作室共有中心轴线，且依照前述工作流体之供
给，往前述上升距离缩小的方向对前述动作部生成负载。