| 主权项 |
一种适用于浸渍曝光之正型光阻组成物，其包括：(A)一种具有脂环烃结构之树脂，其中树脂(A)包括(i)具有内酯基之重复单元，及(ii)可产生具有脂环结构的脱离基之重复单元，且该脱离基系因酸之作用而自重复单元(ii)脱离；及(B)一种在以光化射线与放射线之一照射时可产生酸之化合物，其中树脂(A)包括以凝胶穿透层析术所得之图案区域中相对全部面积之面积比例为20%或以下之分子量为1,000或以下之成分；其中树脂(A)具有7,000至50,000之重量平均分子量，及1.5或以下之分散程度(重量平均分子量/数量平均分子量)；其中光阻组成物具有2.0至6.0质量%之总固体内容物浓度。
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