| 发明名称 |
抗反射薄膜之制造方法、抗反射薄膜、偏光板及影像显示装置 |
| 摘要 |
本发明，提供可以轻易地制造具有优异的抗反射特性、具有优异的耐摩擦性及防污性，并且抑制至今从未过问的轻微白化之发生的抗反射薄膜之制造方法、抗反射薄膜、以及使用该薄膜之偏光板及影像显示装置。
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| 申请公布号 |
TWI530707 |
申请公布日期 |
2016.04.21 |
| 申请号 |
TW101117511 |
申请日期 |
2012.05.16 |
| 申请人 |
大日本印刷股份有限公司 |
发明人 |
筱原诚司;林真理子;秋山健太郎 |
| 分类号 |
G02B1/11(2015.01);B32B7/04(2006.01);B32B27/18(2006.01) |
主分类号 |
G02B1/11(2015.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
何金涂;丁国隆 |
| 主权项 |
一种抗反射薄膜之制造方法，其依序包含以下之步骤(1)~(3)，该抗反射薄膜至少依序具有透明基材、低折射率层、及防污层，自该防污层侧藉由X射线光电子光谱法(XPS)测定之氟原子/碳原子比为0.6~1.0，且矽原子/碳原子比为小于0.25，该防污层之平均面粗糙度(Ra’)为10nm以下；步骤(1)在透明基材上涂布至少含有含氟化合物、微粒子及黏结剂树脂之低折射率层形成用组成物，形成涂膜之步骤；步骤(2)使该涂膜相分离成低折射率相与防污相之步骤；步骤(3)加热该低折射率相与该防污相，或对该低折射率相与该防污相照射游离辐射，形成低折射率层与覆盖该低折射率层之全面的防污层之步骤。
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| 地址 |
日本 |
