| 发明名称 |
EUV光罩保护膜结构 |
| 摘要 |
EUV光罩保护膜结构，其中该EUV光罩保护膜结构，包括一框架及一多层保护薄膜，该框架系具有一第一结合面及一第二结合面，该多层保护薄膜包含一石墨稀层，该石墨稀层的顶端及底端表面上分别结合有一氮化矽层，使石墨稀层受到二个氮化矽层夹持，以增加石墨稀层结构的强度，并藉由一无机胶体将多层保护薄膜黏固于框架的第一结合面，该框架的第二结合面可藉由无机胶体固定于一光罩的表面，在使用波长13.5nm的极紫外光(EUV)照射下，藉由石墨稀层高透明度特性，而达到高光穿透率之目的。 |
| 申请公布号 |
TWM520723 |
申请公布日期 |
2016.04.21 |
| 申请号 |
TW104220655 |
申请日期 |
2015.12.23 |
| 申请人 |
微相科技股份有限公司 |
发明人 |
王 青柏 |
| 分类号 |
H01L21/31(2006.01);G03F1/62(2012.01) |
主分类号 |
H01L21/31(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
蔡嘉慧 |
| 主权项 |
一种EUV光罩保护膜结构，包括： 一框架，系具有二个结合面； 一多层保护薄膜，系具有一石墨稀层，该石墨稀层的顶端表面结合有一第一氮化矽层，而底端表面结合有一第二氮化矽层，形成一三层结构； 系藉由无机胶体将多层保护薄膜黏固于该框架的的其中一结合面，以将框架之其中一表面遮蔽。 |
| 地址 |
美国 |
