发明名称 |
一种单晶SiC及其制作方法 |
摘要 |
一种单晶SiC及其制作方法,尤其是有完整单晶SiC结构特性,可以用作面材、薄膜、线材的以单晶SiC为主、复合而成,或者纯单晶SiC组成的单晶及其制作方法,其制作方法由二步组成:网格状、集束状的单晶SiC复合体生成与二次补偿单晶SiC生成。该单晶有完整单晶结构特性,以单晶SiC为主、复合而成,或者纯单晶SiC组成,设备简单,不需要特别条件,成本低、产量大;可二次补偿,缺陷容易控制,质量成品率高;晶圆尺寸不受限制,长度可控,可连续生成,适宜大批量生产。 |
申请公布号 |
CN105506741A |
申请公布日期 |
2016.04.20 |
申请号 |
CN201410523774.2 |
申请日期 |
2014.10.08 |
申请人 |
段兴 |
发明人 |
段兴 |
分类号 |
C30B29/36(2006.01)I;C30B7/14(2006.01)I |
主分类号 |
C30B29/36(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
涉及一种单晶SiC及其制作方法,尤其是有完整单晶SiC结构特性,可以用作面材、薄膜、线材的以单晶SiC为主、复合而成,或者纯单晶SiC组成的单晶及其制作方法,其制作方法由二步组成:网格状、集束状的单晶SiC复合体生成与二次补偿单晶SiC生成,二次补偿也可不要,如模板适宜直接第一步即可形成单晶,其特征是:以定向附着生长(oreinted attachment)原理,形成网格状、集束、薄膜状的单晶SiC、或其复合体,具有完整SiC单晶结构特性。 |
地址 |
266000 山东省青岛市城阳正阳路151号2号楼1107 |