| 发明名称 | 掩膜版 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种掩膜版，属于曝光技术领域，其可解决现有的掩膜版会因衍射影响而分辨率受限的问题。本发明的掩膜版包括：图形结构，其包括遮光区和透光区；设于图形结构出光侧的全反射结构，在远离图形结构的方向上所述全反射结构包括依次设置且接触的高折射层、第一低折射层，所述高折射层的折射率大于第一低折射层的折射率。 | ||
| 申请公布号 | CN105511220A | 申请公布日期 | 2016.04.20 |
| 申请号 | CN201610080491.4 | 申请日期 | 2016.02.04 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 | 发明人 | 张朝波;刘亮亮;田宏伟;白妮妮;韩帅;康峰;唐亮;绰洛鹏;闵天圭 |
| 分类号 | G03F1/24(2012.01)I | 主分类号 | G03F1/24(2012.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 柴亮;张天舒 |
| 主权项 | 一种掩膜版，其特征在于，包括：图形结构，其包括遮光区和透光区；设于图形结构出光侧的全反射结构，在远离图形结构的方向上所述全反射结构包括依次设置且接触的高折射层、第一低折射层，所述高折射层的折射率大于第一低折射层的折射率。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||