光致抗蚀剂组合物和形成电子装置的相关方法

摘要

本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物和形成电子装置的相关方法。光致抗蚀剂组合物包括第一聚合物，其中至少一半的重复单元是光酸产生重复单元；和第二聚合物，其在酸的作用下在碱性显影剂中展现溶解度的变化。在所述第一聚合物中，所述光酸产生重复单元中的每一个包含光酸产生官能团和碱溶解度增强官能团。

主权项

一种光致抗蚀剂组合物，其包含：第一聚合物，其包含以全部重复单元的100摩尔％计50到100摩尔％的光酸产生重复单元；其中所述光酸产生重复单元中的每一个包含阴离子、光酸产生阳离子和碱溶解度增强官能团；其中所述阴离子或所述光酸产生阳离子是聚合物结合的；其中所述碱溶解度增强官能团选自由以下各者组成的群组：叔羧酸酯、其中仲碳经至少一个未被取代或被取代的C_6‑40芳基取代的仲羧酸酯、缩醛、缩酮、内酯、磺内酯、α‑氟化酯、β‑氟化酯、α，β‑氟化酯、聚亚烷基二醇、α‑氟化醇和其组合；且其中所述光酸产生阳离子具有结构(I)其中q在每一光酸产生重复单元中独立地为0、1、2、3、4或5；r在每一光酸产生重复单元中在每次出现时独立地为0、1、2、3或4；R¹在每一光酸产生重复单元中在每次出现时独立地为卤素、未被取代或被取代的C_1‑40烃基或未被取代或被取代的C_1‑40亚烃基；m在每一光酸产生重复单元中独立地为0或1；X在每一光酸产生重复单元中独立地为单键、‑O‑、‑S‑、‑C(＝O)‑、‑C(R²)₂‑、‑C(R²)(OH)‑、‑C(＝O)O‑、‑C(＝O)N(R²)‑、‑C(＝O)C(＝O)‑、‑S(＝O)‑或‑S(＝O)₂‑，其中R²在每次出现时独立地为氢或C_1‑12烃基；且Z^‑是游离或单价单阴离子；和第二聚合物，其在酸的作用下在碱性显影剂中展现溶解度的变化。