散射光参考像素

摘要

本发明涉及用于确定强度调制的电磁辐射信号的强度调制的强度和/或相对相位的装置，其具有检测器和用于将强度调制的辐射信号成像到检测器上的成像光学装置。与此相比，本发明解决了提供用于减少散射光对强度调制的电磁辐射信号的强度调制的强度和/或相位确定的影响的问题。为了解决此问题，本发明提出，将在开头处提及的类型的装置按照以下方式配置：所述装置具有至少一个散射光参考像素，该至少一个散射光参考像素被布置在成像光学装置的成像区段外且被按以下方式设置：所述像素在操作期间记录强度调制的散射光信号的所测量的值，以及确定设备，所述确定设备按以下方式设置：所述确定设备在操作期间将来自所述成像区段内的检测器的像素矩阵中的至少一个像素的所测量的值作为第一数据输入并将来自至少一个散射光参考像素的所测量值的值作为第二数据输入来处理，处理方式为：所述确定设备确定强度调制的辐射信号的经纠正的强度和/或强度调制的辐射信号的强度调制和该成像区段内的至少该像素的参考信号之间的经纠正的相对相位并将所述强度和/或相位作为数据输出提供。

主权项

一种用于确定强度调制的电磁辐射信号(2)的强度辐射的强度和/或相位的装置(1)，包括：检测器(2)，其中所述检测器(3)具有像素矩阵(5)，以及用于将强度调制的辐射信号(2)成像到所述检测器(3)上的成像光学装置(7)，其中所述成像光学装置(7)在操作中用所成像的强度调制的辐射信号(2)照射所述检测器(3)的成像部分(16)，以及其中所述像素矩阵(5)被至少逐部分地布置在所述检测器(3)的所述成像部分(16)内且具有多个像素(6)，所述多个像素被适配成在操作中所述多个像素记录所述强度调制的辐射信号(2)的测量值，其特征在于，所述装置(1)具有至少一个散射光参考像素(10)，所述至少一个散射光参考像素被布置在所述检测器(3)的所述成像部分(16)外且被适配成在操作中所述至少一个散射光参考像素记录强度调制的散射光信号(9)的测量值，以及确定设备，所述确定设备被适配成在操作中所述确定设备将来自所述成像部分(16)内的所述像素矩阵(5)的至少一个像素(6)的测量值作为第一数据输入并将来自至少一个散射光参考像素(10)的测量值作为第二数据输入来处理，处理方式为：在第一确定步骤中，所述确定设备根据所述第一数据输入确定所述强度调制的辐射信号(2)的强度和/或所述强度调制的辐射信号(2)的强度调制和所述成像部分(16)内的至少所述像素(6)的参考信号之间的相对相位，且根据所述第二数据输入确定所述强度调制的散射光信号(9)的强度和/或所述强度调制的散射光信号(9)的强度调制和至少所述散射光参考像素(10)的参考信号之间的相对相位，以及在第二确定步骤中，所述确定设备将所述第一确定步骤的确定结果彼此偏移，偏移方式为：所述确定设备提供所述强度调制的辐射信号(2)的经纠正的强度和/或所述强度调制的辐射信号(2)和所述成像部分(16)内的至少所述像素(6)的参考信号之间的经纠正的相对相位，并将其作为数据输出提供，和/或所述确定设备处理所述数据输入，处理方式为：在第一确定步骤中，所述确定设备将所述数据输入彼此偏移，偏移方式为：所述确定设备确定所述成像部分(16)内的至少所述像素(16)的经纠正的测量值，以及在第二确定步骤中，所述确定设备根据所述第一确定步骤的经纠正的测量值确定所述强度调制的辐射信号(2)的经纠正的强度和/或所述强度调制的辐射信号(2)的强度调制和所述成像部分(16)内的至少所述像素(16)的参考信号之间的经纠正的相对相位并将其作为数据输出提供。