发明名称 用于制备偏振膜的装置
摘要 本发明公开了通过连续工艺用碘、碘化钾和硼酸使基膜染色来制备表现出偏振特性的PVA膜(偏振膜)的装置,所述装置包括:染色浴,所述基膜在所述染色浴中浸渍在包含碘、碘化钾和硼酸的含水溶液中以使所述基膜染色,并且碘的浓度维持在预定的低浓度范围中;以及至少一个泵,设置在所述染色浴的一侧以通过连续或间断滴入方式进给碘,其中,基于在与所述泵间隔开的所述染色浴的某个区域中测量的碘浓度与从所述泵进给的碘的区域中的碘浓度的偏差,所述进给的碘的量被控制成使得在所述某个区域中测量的碘浓度维持在预定的低浓度范围中。
申请公布号 CN105518562A 申请公布日期 2016.04.20
申请号 CN201480049321.9 申请日期 2014.09.12
申请人 LG化学株式会社 发明人 金恩用;李圭滉;李镐敬;李昶松
分类号 G05D25/02(2006.01)I 主分类号 G05D25/02(2006.01)I
代理机构 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人 许向彤;李琳
主权项 一种用于经连续工艺通过用碘、碘化钾和硼酸使基膜染色来制备表现出偏振特性的PVA膜(偏振膜)的装置,包括:染色浴,所述基膜在所述染色浴中浸渍在包含碘、碘化钾和硼酸的水溶液中以使所述基膜染色,碘的浓度维持在预定的低浓度范围内;以及至少一个泵,设置在所述染色浴的一侧以通过连续或间断的滴落方式进给碘,其中,基于在与所述泵间隔开的所述染色浴的某个区域中测量的碘浓度与从所述泵进给碘的区域中的碘浓度的偏差,进给的碘的量被控制为使得在所述某个区域中测量的所述碘浓度维持在预定的低浓度范围内。
地址 韩国首尔