| 发明名称 | 二氧化硅磨粒、二氧化硅磨粒的制造方法和磁盘用玻璃基板的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种二氧化硅磨粒，其不会对研磨对象物造成损伤，且不会降低研磨速度。对于所述二氧化硅磨粒，磨粒内部的硅烷醇基(Si-OH)相对于磨粒整体的硅元素(Si)的比值(Si-OH)/Si为0.4以上。 | ||
| 申请公布号 | CN105518780A | 申请公布日期 | 2016.04.20 |
| 申请号 | CN201480046423.5 | 申请日期 | 2014.09.30 |
| 申请人 | HOYA株式会社 | 发明人 | 德光秀造 |
| 分类号 | G11B5/84(2006.01)I;B24B37/04(2012.01)I;C09K3/14(2006.01)I | 主分类号 | G11B5/84(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人 | 庞东成 |
| 主权项 | 一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该制造方法具有研磨处理，所述研磨处理是向玻璃基板的主表面与研磨垫之间供给含有二氧化硅磨粒作为游离磨粒的研磨液从而对所述玻璃基板的主表面进行研磨，其中，对于所述二氧化硅磨粒，磨粒内部的硅烷醇基(Si‑OH)相对于磨粒整体的硅元素(Si)的比值(Si‑OH)/Si为0.4以上。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||