发明名称 钕铁硼电镀层的防护工艺
摘要 本发明公开了一种钕铁硼电镀层的防护工艺。该钕铁硼电镀层的防护工艺包括以下步骤:首先,在钕铁硼产品的表面电镀镍铜镍镀层打底;然后,在该电镀镍铜镍镀层的表面镀化学镍进行封闭处理。该钕铁硼电镀层的防护工艺采用在镀好的镍层基础上镀化学镍的封闭处理,很快在表面上形成很薄的防腐蚀保护膜,而且产品表面无任何变化。此工艺操作简单,成本费用合理,而且在较薄的镀层中,可以提高盐雾试验的时间,也提高了镀层的防锈性能,从而节省了电镀镍的费用。
申请公布号 CN105506694A 申请公布日期 2016.04.20
申请号 CN201510971177.0 申请日期 2015.12.21
申请人 中磁科技股份有限公司 发明人 邵江龙;胡晓伟
分类号 C25D5/48(2006.01)I;C23C18/32(2006.01)I 主分类号 C25D5/48(2006.01)I
代理机构 北京中誉威圣知识产权代理有限公司 11279 代理人 李泽中;张相午
主权项 一种钕铁硼电镀层的防护工艺,其特征在于,包括以下步骤:首先,在钕铁硼产品的表面电镀镍铜镍镀层打底;然后,在该电镀镍铜镍镀层的表面镀化学镍进行封闭处理。
地址 044200 山西省运城市万荣县恒磁工业园区恒磁南路15号