| 发明名称 | 一种可见光/红外波段纳米光学吸收涂层及其制备方法 | ||
| 摘要 | 一种可见光/红外波段纳米光学吸收涂层及其制备方法，属于材料技术领域。包括金属基板及生长于金属基板上的具有光电响应特性的半导体光学涂层薄膜，所述金属基板为可见光/红外高反射率金属基板，所述半导体光学涂层薄膜的厚度为10nm～180nm，采用磁控溅射法、热蒸发法或分子束外延法等真空物理气相沉积方式生长。本发明得到的半导体光学涂层薄膜厚度为10～180nm时截止波长即可覆盖400nm～1800nm的范围，其厚度远小于光学吸收波长的1/4；且具有制备工艺简单、超薄、易于大面积集成等优点，在光学镜片涂层、超薄光电探测器以及太阳能电池等领域有着广泛的应用前景。 | ||
| 申请公布号 | CN105506554A | 申请公布日期 | 2016.04.20 |
| 申请号 | CN201511005884.0 | 申请日期 | 2015.12.29 |
| 申请人 | 电子科技大学 | 发明人 | 金立川;张怀武;方觉;张岱南;钟智勇;廖宇龙;白飞明 |
| 分类号 | C23C14/22(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I;H01L31/0216(2014.01)I | 主分类号 | C23C14/22(2006.01)I |
| 代理机构 | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人 | 吴姗霖 |
| 主权项 | 一种可见光/红外波段纳米光学吸收涂层，包括金属基板及生长于金属基板上的半导体光学涂层薄膜，所述金属基板为可见光/红外高反射率金属基板，所述半导体光学涂层薄膜的厚度为10nm～180nm。 | ||
| 地址 | 611731 四川省成都市高新区（西区）西源大道2006号 | ||