发明名称 |
一种宽带的中红外调制器 |
摘要 |
本实用新型涉一种宽带的中红外调制器,所述中红外调制器为多层结构,中红外调制器以二氧化钒为温控相变材料;所述中红外调制器的多层结构的最下层为金,最上层为二氧化硅,二氧化钒层位于中红外调制器的中部,二氧化钒层的上侧设有钛金属层。其中,优选的结构为,中红外调制器的多层结构从下至上依次为金、二氧化硅、二氧化钒、钛金属、二氧化硅。本实用新型的宽带的中红外调制器,该中红外调制器的带宽达到中心波长的94%;该中红外调制器的结构为层状结构,制作简单、成本低,层状薄膜结构无需图案化印刷技术,因此可简化制作工艺、降低成本。 |
申请公布号 |
CN205176417U |
申请公布日期 |
2016.04.20 |
申请号 |
CN201520779022.2 |
申请日期 |
2015.10.09 |
申请人 |
电子科技大学 |
发明人 |
刘志军;彭昊;蒋亚东 |
分类号 |
G02F1/01(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/01(2006.01)I |
代理机构 |
北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 |
代理人 |
裴娜 |
主权项 |
一种宽带的中红外调制器,其特征在于,所述中红外调制器为多层结构,中红外调制器以二氧化钒为温控相变材料;所述中红外调制器的多层结构的最下层为金,最上层为二氧化硅,二氧化钒层位于中红外调制器的中部,二氧化钒层的上侧设有钛金属层。 |
地址 |
610054 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号 |