发明名称 |
曝光装置和图像形成设备 |
摘要 |
本发明公开一种曝光装置和图像形成设备。曝光装置包括光源、图像处理单元和发光控制单元。在所述光源中沿主扫描方向和副扫描方向布置有多个发光元件。基于与图像有关的图像信息和与图像的处理方法有关的处理信息,所述图像处理单元利用与所述处理信息对应的处理方法执行将图像信息转换为用于曝光的图像信息的图像处理。所述发光控制单元根据所述用于曝光的图像信息控制发光元件发射光束。所述发光控制单元基于在副扫描方向上与所述图像处理单元中执行的所述图像处理对应的周期以及发光元件沿副扫描方向布置的周期来控制要发射光束的发光元件。 |
申请公布号 |
CN102135743B |
申请公布日期 |
2016.04.20 |
申请号 |
CN201010552725.3 |
申请日期 |
2010.11.17 |
申请人 |
富士施乐株式会社 |
发明人 |
荒井康裕;吉川隼人;藤瀬雅规;小泉健司 |
分类号 |
G03G15/043(2006.01)I;G03G15/00(2006.01)I;G02B26/12(2006.01)I |
主分类号 |
G03G15/043(2006.01)I |
代理机构 |
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 |
代理人 |
顾红霞;何胜勇 |
主权项 |
一种曝光装置,包括:光源,在所述光源中沿主扫描方向和副扫描方向布置有多个发光元件;图像处理单元,基于与图像有关的图像信息和与图像的处理方法有关的处理信息,所述图像处理单元利用与所述处理信息对应的处理方法执行将所述图像信息转换为用于曝光的图像信息的图像处理;以及发光控制单元,其根据所述用于曝光的图像信息控制发光元件发射光束,其中,所述发光控制单元基于在副扫描方向上与所述图像处理单元中执行的所述图像处理对应的周期以及发光元件沿副扫描方向布置的周期来控制要发射光束的发光元件,至少两个发光元件就副扫描方向而言布置在相同位置处,并且基于在副扫描方向上与所述图像处理对应的所述周期以及发光元件沿副扫描方向布置的所述周期,所述发光控制单元选择就副扫描方向而言布置在相同位置处的所述至少两个发光元件中的一个发光元件,并且使所选择的发光元件发射光束。 |
地址 |
日本东京 |