发明名称 ALD/CVDプロセスにおけるGST膜のための前駆体
摘要 A process of making an antimony-containing or bismuth containing film such as a germanium-antimony-tellurium alloy (GST) or germanium-bismuth-tellurium (GBT) film uses a process selected from atomic layer deposition and chemical vapor deposition. A silylantimony precursor or silylbismuth precursor is used as a source of antimony or bismuth.
申请公布号 JP5905858(B2) 申请公布日期 2016.04.20
申请号 JP20130167334 申请日期 2013.08.12
申请人 エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッドAIR PRODUCTS AND CHEMICALS INCORPORATED 发明人 マンチャオ シャオ;イアン ブキャナン;シンジャン レイ
分类号 C23C16/18;C07F7/08;C07F9/90;C07F9/94;C07F19/00;C23C16/52 主分类号 C23C16/18
代理机构 代理人
主权项
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