发明名称 |
ALD/CVDプロセスにおけるGST膜のための前駆体 |
摘要 |
A process of making an antimony-containing or bismuth containing film such as a germanium-antimony-tellurium alloy (GST) or germanium-bismuth-tellurium (GBT) film uses a process selected from atomic layer deposition and chemical vapor deposition. A silylantimony precursor or silylbismuth precursor is used as a source of antimony or bismuth. |
申请公布号 |
JP5905858(B2) |
申请公布日期 |
2016.04.20 |
申请号 |
JP20130167334 |
申请日期 |
2013.08.12 |
申请人 |
エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッドAIR PRODUCTS AND CHEMICALS INCORPORATED |
发明人 |
マンチャオ シャオ;イアン ブキャナン;シンジャン レイ |
分类号 |
C23C16/18;C07F7/08;C07F9/90;C07F9/94;C07F19/00;C23C16/52 |
主分类号 |
C23C16/18 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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