发明名称 阵列基板的制作方法
摘要 本发明提供一种阵列基板的制作方法,通过在平坦层光罩(40)上用于形成沟槽的条形图案(401)两侧设置坡角改善图案(402),从而可以降低在平坦层(30)上形成的沟槽(32)的坡角(321),使其坡度变缓,防止后续制程中造成金属或ITO残留引起信号线间的短路,提高产品良率;对于内嵌式触控结构的阵列基板的沟槽处,不需对触控感应线进行换线,降低工艺难度,提升产品良率。
申请公布号 CN105514033A 申请公布日期 2016.04.20
申请号 CN201610020299.6 申请日期 2016.01.12
申请人 武汉华星光电技术有限公司 发明人 刘元甫;汤富雄
分类号 H01L21/77(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I;G02F1/1368(2006.01)I 主分类号 H01L21/77(2006.01)I
代理机构 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 代理人 林才桂
主权项 一种阵列基板的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1、提供一基板(10),在所述基板(10)上形成TFT层(20),之后在所述TFT层(20)上涂布有机光阻材料,形成平坦层(30);步骤2、提供一平坦层光罩(40),所述平坦层光罩(40)上设有对应于所述平坦层(30)周边区域的数条沟槽图案(41),所述沟槽图案(41)包括用于在平坦层上形成沟槽的条形图案(401)、以及设于所述条形图案(401)两侧的坡角改善图案(402),所述坡角改善图案(402)包括沿所述条形图案(401)的边界并列密集排布的数个微型图案(421),所述微型图案(421)的宽度从所述条形图案(401)的边界向外逐渐变小;步骤3、采用所述平坦层光罩(40)对所述平坦层(30)进行曝光、显影,在所述平坦层(30)的周边区域形成数条沟槽(32),由于所述平坦层光罩(40)上用于形成沟槽的条形图案(401)两侧设有坡角改善图案(402),从而可以降低沟槽(32)的坡角(321),使其坡度变缓。
地址 430070 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋
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