Atomic layer deposition apparatus and loading methods

摘要

본 발명은 서로에 대하여 소정의 패턴으로 배치된 복수의 ALD 반응기들에 대한 방법과 장치에 관한 것으로, 상기 ALD 반응기들의 각각은 ALD 프로세싱을 위해 기판들의 뱃치(batch)를 수용하도록 구성되고, 상기 ALD 반응기들의 각각은 상부로부터 액세스할 수 있는 반응 챔버(chamber)를 포함한다. 복수의 로딩 시퀀스들이 로딩 로봇에 의해 수행된다. 각각의 로딩 시퀀스는 보관 영역 또는 선반 안에서 기판들의 뱃치를 운반하는 기판 홀더를 잡는(picking up) 단계 및 상기 기판들의 뱃치와 상기 기판 홀더를 상기 ALD 반응기의 반응 챔버로 이동시키는(moving) 단계를 포함한다.