| 摘要 |
본 발명은 발광효율 및 열방출 효율이 우수한 수직형 발광다이오드 소자의 제조공정에 사용되는 레이저 리프트 오프 장비에 있어서, 빔의 위치별로 반사 또는 흡수되는 양을 조절하여 빔을 균일하게 하는 방법과 그 장치에 관한 것이다. 균일화하고자 하는 영역에서 에너지밀도가 가장 낮은 부분의 제거율(반사도 또는 흡수도)이 최소가 되고, 중앙으로 갈수록 제거율(반사도 또는 흡수도)이 증가하는 차단수단(반사판 또는 흡수판)을 추가함으로써 중앙부분에 남는 에너지를 제거하여 전 영역에서 균일한 에너지밀도를 얻을 수 있다. 이때 빔의 위치에 따라 제거할 에너지밀도를 입사한 에너지밀도로 나눈 비율 곡선과 제거율(반사도 또는 흡수도) 곡선이 선택 영역 내에서 일치하도록 하여야 한다. |
