发明名称 TUNNEL FIELD-EFFECT TRANSISTOR, METHOD FOR MANUFACTURING SAME, AND SWITCH ELEMENT
摘要 터널 전계 효과 트랜지스터(TFET)는, p형을 띠는 IV족 반도체 기판의 (111)면 상에 III-V족 화합물 반도체 나노와이어가 배치되고, 소스, 드레인 및 게이트의 각 전극이 적절히 배치되거나, 또는, n형을 띠는 IV족 반도체 기판의 (111)면 상에 III-V족 화합물 반도체 나노와이어가 배치되고, 소스, 드레인 및 게이트의 각 전극이 적절히 배치되어 구성된다. 상기 나노와이어는 제1 영역과 제2 영역에 의하여 구성되어 있다. 예를 들면, 제1 영역은 p형 도펀트로 단속적으로 도핑되고, 제2 영역은 n형 도펀트로 도핑되어 있다.
申请公布号 KR20160041929(A) 申请公布日期 2016.04.18
申请号 KR20167003630 申请日期 2014.08.12
申请人 JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY 发明人 FUKUI TAKASHI;TOMIOKA KATSUHIRO
分类号 H01L29/06;B82Y10/00;B82Y30/00;B82Y40/00;H01L21/28;H01L29/417;H01L29/66;H01L29/78 主分类号 H01L29/06
代理机构 代理人
主权项
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