发明名称 |
使用X射线光电子光谱与X射线萤光技术之多层与多程序资讯的前授 |
摘要 |
使用XPS与XRF技术用于多层与多程序资讯之前授的方法和系统。在一个例子中,一种薄膜特征化方法包含对于具有一基板之上的一第一层的一试样,量测第一XPS与XRF强度讯号。该第一层的厚度系基于该第一XPS与XRF强度讯号加以决定。该第一层与该基板的资讯系加以结合,以估算一有效基板。对于具有该基板之上的该第一层之上的一第二层的一试样,量测第二XPS与XRF强度讯号。该方法亦包含基于该第二XPS与XRF强度讯号,决定该第二层的厚度,该厚度将该有效基板列入考量。 |
申请公布号 |
TW201614225 |
申请公布日期 |
2016.04.16 |
申请号 |
TW104120222 |
申请日期 |
2015.06.24 |
申请人 |
雷韦拉股份有限公司 |
发明人 |
波伊什 希思A;李 维迪;博特 劳伦斯V;关 永超;克拉雷 马克;拉森 汤姆 |
分类号 |
G01N23/22(2006.01);G01N23/223(2006.01);G01N23/227(2006.01);G01B15/02(2006.01) |
主分类号 |
G01N23/22(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
周良谋;周良吉 |
主权项 |
一种薄膜特征化方法,该方法包含: 对于具有一基板之上的一第一层的一试样,量测第一XPS与XRF强度讯号,该第一XPS与XRF强度讯号包含该第一层与该基板的资讯; 基于该第一XPS与XRF强度讯号,决定该第一层的厚度; 结合该第一层与该基板的资讯,以估算一有效基板; 对于具有该基板之上的该第一层之上的一第二层的一试样,量测第二XPS与XRF强度讯号,该第二XPS与XRF强度讯号包含该第二层、该第一层、及该基板的资讯;及 基于该第二XPS与XRF强度讯号,决定该第二层的厚度,该第二层的厚度将该有效基板列入考量。 |
地址 |
美国 |