发明名称 使用X射线光电子光谱与X射线萤光技术之多层与多程序资讯的前授
摘要 使用XPS与XRF技术用于多层与多程序资讯之前授的方法和系统。在一个例子中,一种薄膜特征化方法包含对于具有一基板之上的一第一层的一试样,量测第一XPS与XRF强度讯号。该第一层的厚度系基于该第一XPS与XRF强度讯号加以决定。该第一层与该基板的资讯系加以结合,以估算一有效基板。对于具有该基板之上的该第一层之上的一第二层的一试样,量测第二XPS与XRF强度讯号。该方法亦包含基于该第二XPS与XRF强度讯号,决定该第二层的厚度,该厚度将该有效基板列入考量。
申请公布号 TW201614225 申请公布日期 2016.04.16
申请号 TW104120222 申请日期 2015.06.24
申请人 雷韦拉股份有限公司 发明人 波伊什 希思A;李 维迪;博特 劳伦斯V;关 永超;克拉雷 马克;拉森 汤姆
分类号 G01N23/22(2006.01);G01N23/223(2006.01);G01N23/227(2006.01);G01B15/02(2006.01) 主分类号 G01N23/22(2006.01)
代理机构 代理人 周良谋;周良吉
主权项 一种薄膜特征化方法,该方法包含:   对于具有一基板之上的一第一层的一试样,量测第一XPS与XRF强度讯号,该第一XPS与XRF强度讯号包含该第一层与该基板的资讯;   基于该第一XPS与XRF强度讯号,决定该第一层的厚度;   结合该第一层与该基板的资讯,以估算一有效基板; 对于具有该基板之上的该第一层之上的一第二层的一试样,量测第二XPS与XRF强度讯号,该第二XPS与XRF强度讯号包含该第二层、该第一层、及该基板的资讯;及   基于该第二XPS与XRF强度讯号,决定该第二层的厚度,该第二层的厚度将该有效基板列入考量。
地址 美国