发明名称 镀覆方法
摘要 明提供一种镀覆方法,其系在晶圆等的基板与阳极之间施加电压以对基板进行镀覆。镀覆方法,系准备「表面形成有凹部,且该凹部内的至少一部分形成有导电层」的基板W;在含添加剂的硫酸铜镀覆液中使不溶解阳极3以及基板W接触,藉由镀覆电源15在基板W与不溶解阳极3之间施加既定的镀覆电压以对基板W进行镀覆;在不溶解阳极3与基板W之间配置二极体20,藉此,在未施加既定的镀覆电压时,阻断从不溶解阳极3通过镀覆电源15流至基板W的反向电流。
申请公布号 TW201614110 申请公布日期 2016.04.16
申请号 TW104131578 申请日期 2015.09.24
申请人 荏原制作所股份有限公司 发明人 安田慎吾;尾渡晃
分类号 C25D5/00(2006.01);C25D21/12(2006.01);C25D3/38(2006.01);C25D7/12(2006.01) 主分类号 C25D5/00(2006.01)
代理机构 代理人 陈传岳;郭雨岚;锺文岳
主权项 一种镀覆方法,其系一方面防止阻碍基板之倒置镀覆的电解液成分的产生,一方面对基板进行镀覆的方法,其特征为:准备基板,其中该基板的表面形成有凹部,且该凹部内的至少一部分形成有导电层;在含添加剂的硫酸铜镀覆液中使不溶解阳极以及该基板接触;藉由镀覆电源在该基板与该不溶解阳极之间施加既定的镀覆电压,以对该基板进行镀覆;藉由在该不溶解阳极与该基板之间配置二极体,以在未施加该既定镀覆电压时,阻断从该不溶解阳极通过该镀覆电源而流至该基板的反向电流。
地址 日本