| 发明名称 |
成膜装置，基座，及成膜方法 |
| 摘要 |
发明一态样之成膜装置，具备：在基板上进行成膜之成膜室；供基板载置之基座单元；及使基座单元旋转之旋转部；及将基板加热之加热器；及对成膜室供给制程气体之气体供给部；基座单元，具有：保持基板之基座；及设于基座的至少上部，和基座为不同材料，至少表面由SiC所构成之护罩构件；及设于基座与护罩构件之间，表面由和护罩构件为不同材料且制程温度下不会昇华的材料所构成之环状的板。
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| 申请公布号 |
TW201614101 |
申请公布日期 |
2016.04.16 |
| 申请号 |
TW104120947 |
申请日期 |
2015.06.29 |
| 申请人 |
纽富来科技股份有限公司 |
发明人 |
伊藤英树;土田秀一;鎌田功穂;伊藤雅彦;内藤正美;藤林裕明;铃木克己;西川恒一 |
| 分类号 |
C23C16/46(2006.01);C23C16/458(2006.01);C23C16/32(2006.01) |
主分类号 |
C23C16/46(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
| 主权项 |
一种成膜装置，其特征为，具备：在基板上进行成膜之成膜室；供前述基板载置之基座；使前述基座旋转之旋转部；将前述基板加热之加热器；对前述成膜室供给制程气体之气体供给部；前述基座，具有：藉由前述旋转部而受到支撑之环状的外周基座；设于前述外周基座的内周部，而保持前述基板之保持部；设于前述外周基座上之环状的板；覆盖前述板的上面及外周面以及前述外周基座的外周面之护罩构件。
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| 地址 |
日本 |
