曝光方法及装置、以及元件制造方法

摘要

台(WST)之驱动中，藉由编码器系统之至少各一个X编码器与Y编码器之三个编码器(Enc1,Enc2及Enc3)测量载台(WST)在移动面内的位置资讯，并藉由控制装置，以在切换前后维持载台(WST)在移动面内之位置的方式，将用于测量载台(WST)在移动面内之位置之编码器，从编码器(Enc1,Enc2及Enc3)切换至编码器(Enc4,Enc2及Enc3)。因此，即使进行用于载台之位置控制之编码器的切换，亦能在切换前后维持载台在移动面内的位置，正确地进行连续衔接。

主权项

一种曝光方法，系透过投影光学系统以照明光使基板曝光，其包含：使以非接触方式支撑于配置于该投影光学系统下方之底座上且保持该基板之载台移动的动作；藉由于该载台设有格子部与读头之其中一方且该格子部与该读头之另一方设于支撑该投影光学系统之框架构件之编码器系统之与该格子部对向之复数个该读头，测量该载台之位置资讯的动作；以及根据以该编码器系统测量之位置资讯，控制该载台之移动的动作；在该载台之移动中，将该编码器系统中用于测量之该复数个读头之一个切换至另一读头；在该切换后，藉由包含该复数个读头中除了该一个读头以外之剩余读头与该另一读头的复数个读头测量该载台之位置资讯；根据藉由该切换前所使用之该复数个读头测量之位置资讯，取得用以在该切换后使用该另一读头控制该载台之移动之修正资讯；至少在该基板之曝光动作中，藉由该编码器系统测量该载台之位置资讯。