发明名称 |
光阻剂组合物及形成电子装置之相关方法 |
摘要 |
剂组合物包含第一聚合物,其中至少一半的重复单元是光酸产生重复单元;及第二聚合物,其在酸的作用下在硷性显影剂中展现溶解度的变化。在所述第一聚合物中,所述光酸产生重复单元中的每一个包括光酸产生官能基及硷溶解度增强官能基。
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申请公布号 |
TW201614372 |
申请公布日期 |
2016.04.16 |
申请号 |
TW104132736 |
申请日期 |
2015.10.05 |
申请人 |
罗门哈斯电子材料有限公司 |
发明人 |
拉博梅 保罗 J;珍恩 维保;科莱 苏珊 M;萨克雷 詹姆士 W;卡麦隆 詹姆士 F;科沃克 艾米 M;瓦莱里 大卫 A |
分类号 |
G03F7/004(2006.01);G03F7/20(2006.01);G03F7/26(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/004(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
洪武雄;陈昭诚 |
主权项 |
一种光阻剂组合物,其包括:第一聚合物,其包括50至100莫耳%的光酸产生重复单元,其中所述光酸产生重复单元中的每一个包括(a)光酸产生官能基及(b)硷溶解度增强官能基,其选自由以下各者组成之群:第三羧酸酯、其中二级碳经至少一个未经取代或经取代的C6-40芳基取代的第二羧酸酯、缩醛、缩酮、内酯、磺内酯、α-氟化酯、β-氟化酯、α,β-氟化酯、聚伸烷基二醇、α-氟化醇及其组合;及第二聚合物,其在酸的作用下在硷性显影剂中展现溶解度的变化。
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地址 |
美国 |