| 发明名称 |
二元光罩坯料、其制造方法及二元光罩的制造方法 |
| 摘要 |
手段为一种二元光罩坯料，其系在透明基板上具备含有过渡金属M及矽Si或过渡金属M、矽Si及氮N作为主成分，且由单层或复数层构成之光学浓度3.0以上的遮光膜，遮光膜系包含过渡金属、矽及氮的组成满足B≦0.68×A+0.23(式中，A为M相对于Si之原子比，B为N相对于Si之原子比)的层，膜厚为47nm以下。
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| 申请公布号 |
TW201614364 |
申请公布日期 |
2016.04.16 |
| 申请号 |
TW104122539 |
申请日期 |
2015.07.13 |
| 申请人 |
信越化学工业股份有限公司 |
发明人 |
稲月判臣;髙坂卓郎;西川和宏 |
| 分类号 |
G03F1/26(2012.01);G03F1/32(2012.01);G03F1/50(2012.01);G03F1/60(2012.01);G03F1/80(2012.01) |
主分类号 |
G03F1/26(2012.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
| 主权项 |
一种二元光罩坯料，其系在透明基板上具备含有过渡金属M及矽Si或过渡金属M、矽Si及氮N作为主成分，且由单层或复数层构成之光学浓度3.0以上的遮光膜的二元光罩坯料，其特征为：前述遮光膜系包含过渡金属、矽及氮的组成满足式(1)B≦0.68×A+0.23 (1)(式中，A为M相对于Si之原子比，B为N相对于Si之原子比)的层，前述遮光膜的膜厚为47nm以下。
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| 地址 |
日本 |
