反射型光罩基底及其制造方法、反射型光罩及其制造方法、以及半导体装置之制造方法

摘要

明提供一种防止利用电子束检查光罩缺陷时之电荷累积并且具有平滑性较高之多层反射膜的低缺陷之反射型光罩基底、以及反射型光罩及其制造方法。

主权项

一种反射型光罩基底，其特征在于：其系于基板上积层有导电性基底膜、反射曝光之光之多层反射膜及吸收曝光之光之吸收体膜者，并且上述导电性基底膜包含与上述多层反射膜邻接而设置且膜厚为1nm以上且10nm以下之钽系材料。