发明名称 |
照明系统 |
摘要 |
用于一微影装置之照明系统包含:一透镜阵列,其经组态以接收一辐射光束且将该辐射光束聚焦成复数个子光束;一反射元件阵列,其经组态以接收该等子光束且反射该等子光束以便形成一照明光束;一光束分裂器件,其经组态以将该照明光束分裂成一第一部分及一第二部分,其中该第一部分经导向以入射于一微影图案化器件上;一聚焦单元,其经组态以将该照明光束之该第二部分聚焦至一侦测平面上使得在该侦测平面处形成一影像,且其中该影像为该等子光束之一影像,其中该等子光束彼此并不重叠;及一侦测器元件阵列,其经组态以量测入射于该侦测平面上之辐射之强度。
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申请公布号 |
TW201614386 |
申请公布日期 |
2016.04.16 |
申请号 |
TW104130191 |
申请日期 |
2015.09.11 |
申请人 |
ASML荷兰公司 |
发明人 |
高德福莱德 荷曼 菲力普;凡 布索 休博特斯 佩特罗斯 里奥纳多斯 亨利卡;欧普特 罗特 威黑墨斯 派克 伊丽莎白 玛丽亚 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);G02B27/10(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林嘉兴 |
主权项 |
一种用于一微影装置之照明系统,其包含:一透镜阵列,其经组态以接收一辐射光束且将该辐射光束聚焦成复数个子光束;一反射元件阵列,其经组态以接收该等子光束且反射该等子光束以便形成一照明光束;一光束分裂器件,其经组态以将该照明光束分裂成一第一部分及一第二部分,其中该第一部分经导向以入射于一微影图案化器件上;一聚焦单元,其经组态以将该照明光束之该第二部分聚焦至一侦测平面上使得在该侦测平面处形成一影像,且其中该影像为该复数个子光束在处于该反射元件阵列上游之一平面中之一影像,且其中该等子光束在该影像中彼此并不重叠;及一侦测器元件阵列,其经组态以量测入射于该侦测平面上之辐射之强度。
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地址 |
荷兰 |