| 发明名称 |
防尘薄膜、防尘薄膜的制造方法及使用防尘薄膜的曝光方法 |
| 摘要 |
明提供一种极紫外光微影用的防尘薄膜、该防尘薄膜的制造方法及曝光方法。本发明的防尘薄膜具备：第1框体，配置有防尘薄膜用膜；第2框体，支持所述第1框体；贯穿孔，贯穿所述第1框体；以及过滤网，在所述第1框体的配置有所述防尘薄膜用膜的面侧覆盖所述贯穿孔。所述贯穿孔亦可贯穿所述防尘薄膜用膜，所述过滤网亦可配置于所述防尘薄膜用膜上。而且，所述过滤网亦可邻接于所述防尘薄膜用膜而配置于所述第1框体上。 |
| 申请公布号 |
TW201614367 |
申请公布日期 |
2016.04.16 |
| 申请号 |
TW104130869 |
申请日期 |
2015.09.18 |
| 申请人 |
三井化学股份有限公司 |
发明人 |
高村一夫;种市大树;河関孝志;小野阳介;石川比佐子;美谷岛恒明;大久保敦;佐藤泰之;广田俊明 |
| 分类号 |
G03F1/64(2012.01);G03F1/62(2012.01);B82Y40/00(2011.01) |
主分类号 |
G03F1/64(2012.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
叶璟宗;郑婷文;詹富闵 |
| 主权项 |
一种防尘薄膜，其特征在于包括： 第1框体，配置有防尘薄膜用膜； 第2框体，支持所述第1框体； 贯穿孔，贯穿所述第1框体；以及 过滤网，在所述第1框体的配置有所述防尘薄膜用膜的面侧覆盖所述贯穿孔。 |
| 地址 |
日本 |
