投影微影的照明光学装置

摘要

明揭示一种照明光学装置(1)，用于投影微影蚀刻来照明一物场(8)，其中可配置要成像的一物体(12)。该物场(8)具有沿着一物体位移方向(y)的一扫描长度(y0)。该照明光学装置具有两琢面镜(6,7)，用于反射引导照明光(3)朝向该物场(8)。该第二琢面镜(7)的第二琢面(25)用于将一个别照明光部分光束引导进入该物场(8)，该第二琢面镜(7)位于距离与该第二琢面镜(7)最紧密相邻的该照明光学装置(11)的一光瞳平面(12b)一光瞳距离(PA1+PA2)之处，该等第二琢面配置在一网格中，其中由该光瞳距离(PA1+PA2)以及由该扫描长度(y0)预定义该网格的至少一个网格常数。这产生尽可能均匀照明预定义光瞳区段的一照明光学装置。

主权项

一种照明光学装置，系为投影微影蚀刻的一照明系统一部分，用于照明一物场(8)，其中可配置要成像的一物体(12)，该物体在一投影曝光期间通过该物场(8)往一物体位移方向(y)来位移，该照明光学装置包含：- 一第一琢面镜(6)，具有第一琢面(21)用于照明光(3)的该反射引导，- 一第二琢面镜(7)，用于反射引导该第一琢面镜(6)所反射朝向该物场(8)的该照明光(3)，- 其中该第二琢面镜(7)具有第二琢面(25)，用于将一个别照明光部分光束(3i)引导进入该物场(8)，- 其中该第二琢面镜(7)在距离该照明光学装置(11)的一光瞳平面(12b)一距离之处，- 其中该照明光学装置(11)使用一EUV光源(2)来产生该照明光部分光束(3i)时，该光瞳平面(12b)内一入射光瞳(12a)具有至少一个已延伸、已照明的光瞳区，该照明光(3)透过复数个第二琢面(25)照射其上，-其中在该已照明的光瞳区之内，小于该光瞳区10%的面积由一有限照明亮度所照射，该有限照明亮度系小于照射该光瞳区的一平均照明亮度之10%。