发明名称 半导体结构
摘要 半导体结构,包含有一半导体基底;一主动区,位于该半导体基底中;两条沟槽,截穿过该主动区并将该主动区区隔成一源极区和两个汲极区;一马鞍形的N+/N-/N+结构,位于该主动区的该源极区中;以及两个N+汲极掺杂区分别位于该两个汲极区中。
申请公布号 TW201614806 申请公布日期 2016.04.16
申请号 TW103138611 申请日期 2014.11.06
申请人 华亚科技股份有限公司 发明人 李宗翰;施能泰;胡 耀文
分类号 H01L27/108(2006.01);H01L21/265(2006.01);G11C7/18(2006.01) 主分类号 H01L27/108(2006.01)
代理机构 代理人 吴丰任;戴俊彦
主权项 一种半导体结构,包含有:一半导体基底;一主动区,位于该半导体基底中;两条沟槽,截穿过该主动区并将该主动区区隔成一源极区和两个汲极区;一马鞍形的N+/N-/N+结构,位于该主动区的该源极区中;以及两个N+汲极掺杂区分别位于该两个汲极区中。
地址 桃园市龟山区复兴三路667号